槽式清洗機

lWet Bench依照客戶需求可以提供多種制程(清洗/蝕刻/去光阻），可以提供到 45 納米節點全部濕法工藝
lBench濕法工藝設備的子系統包含藥液循環系統、溫控系統、傳送系統、自動控制系統、通信系統、傳感控制系統、氣體流場設計、並採用特定的化學藥液和去離子水，對晶圓表面進行無損傷清洗，以去除晶圓製造過程中的顆粒、自然氧化層、有機物、金屬污染、犧牲層、拋光殘留物等物質，可同時採用超聲波、加熱、真空等輔助技術手段完成的工藝步驟。

分類: 清洗系列