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半自動FOUP Clean for 300mm FAB&先進封裝
分類:
清洗系列
描述
描述
工藝參數
PA adder≤300ea@0.3um
ICP-MS<5PPB
FPH≥8ea/H
適用工藝
大矽片
晶圓製造
先進封裝
應用範圍
Open Cassette
SMIF POD
Single Wafer Box
Wafer Box
Wafer Box
RSP-150
RSP-200
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