光罩清洗機

分類: 清洗系列

描述

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應用領域

Pellicle光罩清洗
Contact-mask 清洗機
水洗噴淋式/水洗擦拭式

工藝指標

可移動顆粒物去除率＞96%
100X光學顯微鏡下表面無污漬和浮水印殘留
無成像 particle

晶圆尺寸

6 inch
7 inch
9 inch

設備配置

最多2個光罩盒 load port
配備2個兆聲波噴淋臂
配備2個清洗液噴淋臂
配備2個CO2/N2吹氣臂
最多4個Spin chambers
依不同光罩類型